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Plasma 清洗機(jī)設(shè)備的特點(diǎn)分析解釋說明

更新時(shí)間:2017-08-15       點(diǎn)擊次數(shù):1217
     Plasma 清洗機(jī)是一種小型化、超清洗設(shè)備。啟天等離子電漿清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子電漿清洗機(jī)外接一臺(tái)真空非破壞性的泵,工作時(shí)Plasma 清洗機(jī)的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。啟天等離子電漿清洗機(jī)短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被等離子電漿清洗機(jī)的真空泵抽走,這款等離子電漿清洗機(jī)的清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
    Plasma 清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能:等離子電漿清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。啟天等離子電漿清洗機(jī)對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過程中Plasma 清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。啟天等離子電漿清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
    等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
    Plasma 清洗機(jī)容易采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
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